納米氧化鉍高剪切分散機
三氧化二鉍納米粉體可以很好的分散于極性烴類溶劑中如 NMP (N-甲基吡咯烷酮) 、PMA (丙二醇甲醚醋酸酯)；非極性溶劑中如：礦物油；同時也可以分散于質子性溶劑中如:alkoxyethers,分散時可達50%的濃度。
三氧化二鉍納米有機溶劑分散體，可確保應用于各種有機溶劑體系，具有廣泛的適用性與易用性。
納米氧化鉍有什么應用
納米氧化鉍主要用于化工行業（如化學試劑、鉍鹽制造等）、玻璃行業（主要用于著色）、電子行業（電子陶瓷等）以及其他行業（如防火紙的制造、核反應堆燃料等）。其中，電子行業是氧化鉍應用*廣的行業，主要用在壓敏電阻、熱敏電阻、氧化鋅避雷器以及顯象管等領域。如果從材料來分，氧化鉍主要用于電子陶瓷粉體材料、電解質材料、光電材料、高溫超導材料、催化劑等。電子陶瓷粉體材料電子陶瓷領域是氧化鉍應用的一個成熟而又充滿活力的領域。氧化鉍作為電子陶瓷粉體材料中的重要添加劑，純度一般要求在99.5%以上。主要應用對象有氧化鋅壓敏電阻、陶瓷電容、鐵氧體磁性材料三類。
納米氧化鉍分散用什么分散機
納米氧化鉍要得到好的應用需要兩個方面：一是提高生產工藝和設備，細度要求很高（D＜50nm）；二是在分散時需要分散均勻，防止納米顆粒抱團；上海依肯高剪切分散機XRS2000是國產分散機**的選擇。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GRS2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GRS2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GRS2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
GRS2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GRS2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
GRS2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
納米氧化鉍高剪切分散機
