一、產品關鍵詞概述
高速涂料二氧化硅分散機，納米二氧化硅研磨分散機，納米二氧化硅分散機，納米研磨分散機，納米分散機，二氧化硅分散機，德國納米分散機，納米高速分散機
二、研磨分散機的結構
納米二氧化硅分散在多個領域都有著重要的應用，如：改性樹脂，改性紡織材料，改性涂料，改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果，粒徑越小分散越均勻，分散效果就越好。SGN高速涂料二氧化硅分散機*的結構，全新的技術，專業應對于納米級物料的分散，先研磨后分散，避免團聚，分散效果好。
對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點，納米分散存在著難以解決的問題，納米物料分散到流體物質當中容易形成二級團聚體，導致物料粒徑變大，難以分散。面對這種情況，SGN/思峻研發出新型設備-研磨分散機，應對納米物質的分散問題。并有著廣泛的實例，如納米級白炭黑的分散，納米級石墨烯的分散，都在使用SGN/思峻研磨分散機進行分散處理，*。
三、研磨分散機的原理
GMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。
納米研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。
四、研磨分散機的工藝
GMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GMD2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。
選型表：
研磨分散機 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1500 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的10%。 | |||||
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