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  • GRS2000墨水納米分散機
    GRS2000墨水納米分散機

    墨水納米分散機是顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態,導致表面原子配位數不足和高表面能。

    更新日期:2025-05-07型號:GRS2000
  • GMSD2000超細粉體分散機
    GMSD2000超細粉體分散機

    超細粉體分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體、氣體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程。

    更新日期:2025-05-07型號:GMSD2000
  • GMD2000頭孢他啶注射液三級納米分散機
    GMD2000頭孢他啶注射液三級納米分散機

    頭孢他啶注射液三級納米分散機采用德國先進的定轉子技術以及皮帶傳動技術,將德國先進的膠體磨技術與德國先進的超高速分散機技術合二為一,設備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質等功能。

    更新日期:2025-05-07型號:GMD2000
  • GMD2000垂體后葉注射液高剪切分散機
    GMD2000垂體后葉注射液高剪切分散機

    垂體后葉注射液高剪切分散機采用德國先進的定轉子技術以及皮帶傳動技術,將德國先進的膠體磨技術與德國先進的超高速分散機技術合二為一,設備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質等功能。

    更新日期:2025-05-07型號:GMD2000
  • GRS2000防水劑管線式三級研磨分散機
    GRS2000防水劑管線式三級研磨分散機

    防水劑管線式三級研磨分散機采用德國先進的定轉子技術以及皮帶傳動技術,將德國先進的膠體磨技術與德國先進的超高速分散機技術合二為一,設備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質等功能。

    更新日期:2025-05-07型號:GRS2000
  • GMD2000光刻膠拋光液超高速分散機
    GMD2000光刻膠拋光液超高速分散機

    光刻膠拋光液超高速分散機新的結構設計,將膠體磨和分散機一體化的設備,膠體磨磨頭+分散盤定轉子,先研磨后分散效果更佳。

    更新日期:2025-05-07型號:GMD2000
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